标准名称：	硅片局部平整度非接触式标准测试方法
英文名称：	Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
中标分类：	冶金 >> 金属化学分析方法 >> 半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：	冶金 >> 金属材料试验 >> 金属材料试验综合
发布部门：	中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会
发布日期：	2005-09-19
实施日期：	2006-04-01
首发日期：	2005-09-19
作废日期：	1900-01-01
主管部门：	信息产业部（电子）
提出单位：	中国有色金属工业协会
归口单位：	信息产业部（电子）
起草单位：	洛阳单晶硅有限责任公司
起草人：	史炯、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼
出版社：	中国标准出版社
出版日期：	2005-12-16
页数：	16开， 页数：9， 字数：14千字
计划单号：	20011279-T-610
书号：	155066.1-26922

本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。

没有内容

没有内容

没有内容

【英文标准名称】:Potassiumhydroxideforindustrialuse;Methodofassay
【原文标准名称】:工业用氢氧化钾试验方法
【标准号】:ISO990-1973
【标准状态】:作废
【国别】:国际
【发布日期】:1973-04
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(ISO)
【起草单位】:ISO/TC47
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:含量测定;化学制品;氢氧化钾;强碱性;化学分析和试验;容量分析;化学分析
【英文主题词】:determinationofcontent;volumetricanalysis;chemicalanalysisandtesting;alkalinity;chemicals;potassiumhydroxide
【摘要】:Methodfordeterminationofthetitre,conventionallyexpressedaspercentagesbymassofKOH.Therearethreeways:a)totalalkalinity,b)causticalkalinitycorrespondingtothetotalalkalinitylessthealkalinityduetocarbonatesandc)actualpotassiumhydroxidecorrespondingtothetotalalkalinitylessthealkalinityduetocarbonatesandanyhydroxidewhichmaybepresent.Theprincipleconsistsintitrationofthetotalalkalinitywithstandardvolumetrichydrochloricacidsolutioninthepresenceofmethylorangeasindicator.Calculationofthethreeamountsa),b),andc).-ReplacesISORecommendationR990-1969.
【中国标准分类号】:G10
【国际标准分类号】:71_060_40
【页数】:2P;A4
【正文语种】:英语